柴田 友厚 
かつて半導体露光装置の世界で覇を競ったニコンとオランダのASMLは、2010年代に入って大きく進路を分けた。ニコンは次世代技術「EUV」から撤退し、既存技術の改良に活路を求めたのだ。当時のCEO・牛田一雄氏は「判断にブレはなかった」と言い切ったが、この選択は結果として手痛い失敗に終わった。なぜニコンはその道を選び、社内の開発陣をどう納得させたのか。柴田友厚教授の著書『覇者 ASMLのイノベーション戦略』（光文社）より一部抜粋してお届けする。
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「名誉ある撤退」を選んだニコン
この局面で、ニコンとASMLの戦略は大きく分岐する。
ニコンは450ミリ対応に大きく舵を切り、EUV開発からは撤退した。よりニコンの意図をくむならば、EUVからの「撤退」よりも「戦略転換」と表現する方が適切かもしれない。一方で、ASMLは450ミリ対応を睨みつつも、迷うことなくEUV開発に邁進した。
まず、ニコンの戦略転換から見てみたい。ニコンの判断は必ずしも非合理的とは言えない。
2013年のニコンのアニュアルレポートは、EUV開発よりも450ミリへの対応を重視する方向性を、次のようにはっきりと宣言している。
「EUVLが次世代装置の本命だと言われて5年以上たちますが、開発は予定通りに進んでいないのが現状です。そうした状況で、半導体メーカーは450mmウエハ対応装置の検討を始めています。これはまさに我々が以前より描いていたロードマップと合っており、あとは450mmウエハ対応装置の開発を予定通りに進めることがいっそう重要になります」（2013年のニコンのアニュアルレポート〈原文ママ〉）
ここで450ミリウェハー対応装置というのは、EUVではない従来のDUV（KrFやArF）露光装置を450ミリウェハーに対応できるようにするという意味である。
さらに2013年のニコンのプレスリリースを見ると、そこには450ミリ対応のArF液浸露光装置の試作機を2015年に出荷すること、次いで量産機を2017年に出荷することが表明されている。さらに、450ミリウェハー対応の試作機を早期にG450Cへ提供して使ってもらい、450ミリウェハー対応のArF液浸露光装置の業界標準化を目指すことも表明している。
ここからは450ミリで世界をリードしようとする意気込みが伝わってくる。そして2014年6月にCEOに就任した牛田一雄は、同年9月のビジネス雑誌とのインタビューで450ミリについて次のように語っている。
