柴田 友厚 
かつて半導体露光装置の世界市場を席巻したニコンやキヤノンなどの日本勢。しかし、半導体の微細化を左右する最先端技術「EUV（極端紫外線）」の開発において、日本は事業化以前に、技術開発そのものでオランダのASMLに完敗を喫した。日本企業おなじみの「技術で勝って事業で負ける」という構図とは異なる敗北の背景には何があったのか。学習院大学教授・柴田友厚氏の著書『覇者 ASMLのイノベーション戦略』（光文社）より一部を抜粋し、日本企業を蝕む「執拗性の劣化」と「自前主義の罠」の深層に迫る。
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日本はなぜ技術で負けたのか
EUVは微細化の最先端を競う技術開発であり、日本は事業化どころか先端技術開発そのもので負けたと言わざるを得ない。
この敗北は、広く知られている他の事例、例えばテレビや液晶パネル産業で日本企業が競争力を失った事例とは性格を異にする。周知のように、かつて日本企業はテレビ産業で世界市場を席巻していた。
しかし、液晶テレビが普及して市場が成熟するにつれて、液晶パネルの量産投資競争が激化した。サムスン電子などの韓国企業は巨額投資によって規模の経済を確立し、その後は中国企業も参入して競争はさらに激化した。
結果として、日本企業は高い技術力を持ちながらも市場での主導権を失ったのである。
このような現象をさして、日本企業はしばしば「技術で勝って事業で負ける」と言われる。しかし、EUV開発での敗北はこれまでの事例とは事情がかなり異なる。日本企業は技術開発そのもので後れを取ったのであり、量産で使える水準まで技術を引き上げることができなかったのである。
世界で初めてEUV露光装置を実用化し、量産ラインで使える技術として確立したのはASMLだった。
日本はなぜ技術で負けたのか。
「執拗性の劣化」がイノベーションを阻害する
ここでは、日本企業が直面した敗因について、二つの観点から深掘りしておこう。
第一は、日本企業における「執拗性の劣化」という観点である。EUV開発は典型的な「死の谷」を伴う技術開発であり、技術探索から実用化まで20年以上を要し、その間には何度も計画の遅延や技術的行き詰まりが発生した。当初想定していた技術ロードマップは途中で瓦解した。
研究開発投資は膨張し続ける一方で成果は見えず、投資家のみならず社内からも中止を求める撤退圧力が高まることは避けられないだろう。こうした状況では、企業は必ず撤退の誘惑に直面する。執拗性が問われるのはこのような時だ。既に説明したことだが、執拗性とは、批判的な社内や投資家を説得して彼らの疑念を解消し、ぶれずに粘り強く目標に向かう企業の能力だと捉えることができる。
